二フッ化キセノンとは? - 日本語辞典 Mazii

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二フッ化キセノン

二フッ化キセノン（にフッかキセノン、Xenon difluoride、XeF2）は、キセノン化合物でもっとも安定なものの1つであり、強力なフッ化剤である。大部分の共有結合性無機フッ化物のように水分に敏感である。高密度の白色結晶で、光や水に接すると分解する。不快臭を持つが、蒸気圧は低い (Weeks

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Các từ liên quan tới 二フッ化キセノン

四フッ化キセノン

四フッ化キセノン（しフッかキセノン、Xenon tetrafluoride）は、分子式がXeF4と表されるキセノンのフッ化物である。二種類の元素からのみ成る貴ガス化合物の中では最初に発見された化合物であり、1molのXeと2molのF2により生成する。この反応は251kJ/molの発熱反応である。

六フッ化キセノン

フッ素化剤である。水に対して非常に敏感なため、痕跡量の水でさえ取り除かなければならない。約300℃、6 MPa の下で二フッ化キセノンを加熱し続けることで得られる。六フッ化キセノンは、二フッ化キセノンや四フッ化キセノンのケースとは対照的に、構造を確定するのに数年を要した。気相では、六フッ

二酸化キセノン

°Cで四フッ化キセノンを加水分解することによって、2011年に初めて合成された。これは、キセノンおよび酸素の配位数がそれぞれ4、2の鎖状あるいは網状構造をとる。キセノンは4つの配位子と2対の孤立電子対をもつ (AX4E2) ため、VSEPR理論と矛盾しない平面四角形である。 ^ Brock, David

二フッ化クリプトン

射、ホットワイヤーそしてプロトン照射を含めたいろいろな方法で合成される。二フッ化クリプトンを合成した最初の方法で、今まで報告された中で唯一のテトラフッ化クリプトンの合成法であった。放電法では、圧力40-60Torr下でフッ素：クリプトン＝1:1～2:1の混合気体にアーク放電することによって合成する。この方法での生成速度は低く、約0

二フッ化ラドン

二フッ化ラドン（にフッかラドン、英: radon difluoride）は、貴ガス化合物の一つで、ラドンのフッ化物である。ラドンは容易にフッ素と反応して固体の二フッ化ラドンを形成するが、気化する前に分解してしまうため正確な組成は分かっていない。計算化学の結果はイオン性を示唆している。ラドン

二フッ化二窒素

二フッ化二窒素はほとんどの場合二つの異性体の混合物であるが、それぞれ独立して精製することができる。シス型は、N2F+イオンを形成するため、五フッ化アンチモンのような強力なフッ化物イオンの受容体と反応する。 N 2 F 2 + SbF 5 ⟶ N 2 F + [ SbF 6 ] − {\displaystyle

一フッ化二銀

一フッ化二銀（いちフッかにぎん、英: disilver monofluoride）は、化学式が Ag2F で表される銀のフッ化物である。結晶構造は逆ヨウ化カドミウム型構造で、Ag-F の層に Ag の層が挿入された構造をとる。Ag-Ag 間距離は300, 2.81 Å、Ag-F 間は2.45 Åである。密度は8