極端紫外線リソグラフィとは?

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極端紫外線リソグラフィ

極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviolet lithography、略称：EUVリソグラフィまたは EUVL) は、極端紫外線（英語版）、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。 EUVLは、2018年から実用化されている露光技術であり、7nmノード以下の露光に使

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紫外線

しがいせん

波長が，可視光線より短く X 線より長い電磁波の総称。波長約四〇〇～数ナノメートル。目には見えないが，太陽光・水銀灯などに含まれ，日焼け，殺菌の作用をもつほか，しばしば光化学反応を起こすなど化学作用が強い。皮膚癌の原因になることがある。また，太陽光線中の紫外線は大気上層の酸素やオゾンによって吸収され，およそ350ナノメートル以下のものは地上に到達しない。化学線。菫外(キンガイ)線。

リソグラフィ

リソグラフィ（Lithography）石版に絵や字を描くこと。リトグラフを参照。ナノリソグラフィの略。半導体、集積回路、印刷用の版を作成するのに用いられる。このページは曖昧さ回避のためのページです。一つの語句が複数の意味・職能を有する場合の水先案内のために、異なる用法を一覧にしてあります。お探

真空紫外線

真空紫外線（しんくうしがいせん、英:Vacuum Ultra Violet, VUV）は、電磁波の1種で、紫外線の中で最も波長の短い10–200 nm 付近の領域を言う。なお、波長帯の区分方法によっては、軟X線と一部が重なることもある。「真空紫外線」という呼び名は、この波長帯

紫外線写真

紫外線照射をより有効に行うにはアルミニウム反射鏡による表面反射が有効である。しかしながら、エレクトリックフラッシュの発光管には紫外線カットガラスを用いたり、金薄膜の蒸着を行って紫外線放射を抑止したものが多い。これは、通常の撮影では、紫外線は「青かぶり」の原因になるなど弊害を生みがちであるからである。

マスクレスリソグラフィ

2013年、Swinburne工科大学は異なる波長の2本の光学ビームを組み合わせて使用することにより9 nmのサイズに52 nm間隔に到達したと発表した。集束イオンビームシステムはイオン注入用や他の形式では対応できない用途において現在一般的に使用される。 IBMは原子間力顕微鏡の技術を元にした代替マスクレスリソグラフィーを開発した。参照