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回路同士の距離が演算速度に影響を与えるスーパー・コンピュータやメインフレーム・コンピュータなどに用いられる。メインフレームコンピュータやスーパーコンピュータで使われるマルチチップモジュールは100層を超えるセラミック基板を焼結生成した非常に高度な立体回路
-気体の原料を、基板の近傍で、熱やプラズマによって反応させて薄膜を生成する方法。 熱CVD 有機金属CVD(MOCVD) プラズマCVD 原子層堆積 融液法 -液相エピタキシー(LPE)など 溶液法 めっき ゾルゲル法 塗布法 スピンコート スプレー法 印刷 インクジェット 薄膜は膜の厚みによって分類され以下のようになる。 膜の厚みが数10μmならば厚膜
集積回路設計(しゅうせきかいろせっけい)の記事では、集積回路の設計について解説する。主な領域を占める電子工学の他、半導体物性等から論理設計など応用分野に応じた各種の知識と技術も必要である。集積回路そのものについては集積回路の記事を参照のこと。 分野として、ディジタルICの設計と、アナログICの設計
モノリシックマイクロ波集積回路 (英: monolithic microwave integrated circuit、略称MMIC) とはマイクロ波集積回路 (MIC) の一種で従来はディスクリート部品(単機能の部品)で構成されていたマイクロ波回路を、微細加工技術により単一の半導体基板上に形成し
積分回路(せきぶんかいろ)は、電気回路の一種で入力電圧の波形の時間積分に等しい波形の電圧を出力する回路である。 コンデンサ両端の電圧は、流れ込んだ電流の積分(電荷の総量)に比例するという事実を利用している。 電気回路中を流れる電流というのは、実は荷電粒子(電子など)の移動によって現れる、
多くのものを集めてつみ重ねること。 また, 集まってつみ重なること。
(B) が存在しない)である。主に液晶ディスプレイ (LCD) に応用されている。半導体活性層としてセレン化カドミウム (CdSe) を使ったTFTは固体撮像素子用として1949年に発表され、1973年にLCDの駆動が発表された。半導体としてケイ素 (Si)
用いられるLOWE膜もこの光学薄膜の一種であり、可視光線を透過しながら紫外線や赤外線、遠赤外線を反射する特性を有しており、夏のエアコンの負荷を軽減したり冬の暖房負荷を抑えたりする効果がある。 光学薄膜の一種に選択吸収膜がある。選択吸収膜は特定の波長域の吸収特性を高める(反射率を下げる)作用があり、太陽熱温水器等に使用される。