Ngôn ngữ
Không có dữ liệu
Thông báo
Không có thông báo mới
一般的なイオン注入装置は、打ち込む元素のイオンを発生させるイオン源、必要なイオンだけを選別する質量分析機構、イオンを電気的に加速する加速器、対象物であるターゲットを高真空状態で保持するチャンバーから構成される。イオンは単一の元素が使われる。ドーズ量と呼ばれる注入された物質の総量はイオン
「ホットエレクトロン」は、正孔と再結合したりコレクターに向かって材料中を流れることはせず、半導体材料をトンネルする。その結果リーク電流が増加したり、ホットキャリアが周囲の絶縁膜の原子構造を乱して絶縁膜にダメージを与える。 ホットエレクトロン
(1)流し入れる。
(水など)足りない分を, 注ぎ加える。
(1)液体を器の中にそそぎ入れる。
スピン方向が、硬磁性体の磁化方向と同じ向きに電子のスピン方向が揃えられて通過させられることを利用し、障壁層を挟んだ先にある軟磁性体の記録層(自由層)との間にスピン注入磁化反転を起こさせ、参照層と同じ向きに磁化を反転させる。逆に参照層から記録層へ電子の流れを起こせば、参照層の磁化方向と同じスピン
汲んで中にいれる。 汲み込む。
担いで運び入れる。