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ケイ酸ハフニウムとケイ酸ジルコニウムの薄膜は化学気相成長法(主にMOCVD)によって作られ、半導体材料である二酸化ケイ素に代わる高誘電率誘電体(high-k dielectric)として使うことができる。 塩化ハフニウム(IV) ケイ酸ジルコニウム(IV) 表示 編集
硫化ハフニウム(IV)(りゅうかハフニウム よん、英: hafnium(IV) sulfide)はハフニウムの硫化物で、組成式が HfS2 と表される紫褐色の固体である。一般的には二硫化ハフニウムと呼ばれる。 硫化ハフニウム(IV)は菱面体晶型の層状結晶構造を持ち、各層はハフニウムの層の両面を八面
臭化ハフニウム(IV)(Hafnium tetrabromide)は、化学式HfBr4の無機化合物である。ハフニウムの臭化物のうち、最も一般的なものである。無色で反磁性を持ち、湿気と反応しやすい固体で、真空中で昇華する。塩化ハフニウム(IV)が高分子構造を持つのと対照的に、四面体金属中心を持つ臭化
炭化ハフニウム(IV)(en:Hafnium(IV) carbide)を250 ℃以上の温度で塩素化反応させる たとえば2の方法では、下記反応式で示すように、酸化ハフニウム(IV)と炭素の混合物を塩素もしくは一塩化硫黄の気流下で加熱し、反応させることによって合成される。 HfO 2 + 4 Cl
他の成分にもよるが、酸化スズ(IV)の釉薬融成物への溶解度は低い。Na2O、K2O、B2O3によって溶解度が増し、CaO、BaO、ZnO、Al2O3、および限られた量のPbOによって溶解度が減少する。 酸化スズ(IV)はガラス、琺瑯、釉薬の製造において顔料として用いられてきた。純粋な酸化スズ(IV)は乳白色であり、他の金属の酸化物
oxide)は、化学式が WO2 の無機化合物である。青銅色の固体で、結晶は単斜晶系である。短い W-W 結合 (248 pm) を持つ八面体配位の WO6 を中心とした歪んだルチル型の構造をとる。それぞれのW中心は d 2 の電子配置をとるため、大きな電気伝導性を持つ。
酸化ウラン(IV)(さんかウラン よん、英: uranium(IV) oxide)、または二酸化ウラン(にさんかウラン、英: uranium dioxide)は、化学式が UO2 と表されるウランの酸化物である。通常は褐色の無定形粉末で、融点約2,800 °C、比重10.97、室温での定圧モル比熱は14
酸化セリウム(IV)(さんかセリウム よん、英: cerium(IV) oxide)は、化学式が CeO2 と表されるセリウムの酸化物である。希土類酸化物の一つ。セリアとも呼ばれる。研磨剤、触媒、燃料電池、日焼け止めに使われる。 重要な化学品であり、鉱石から元素セリウムを精製するときの中間体として生じる。