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蒸留や改質などの処理を受けてから製品となることが多い。 主蒸留塔(常圧蒸留塔、主精留塔)は常圧蒸留装置の中心となる蒸留塔で、高さは約50m、直径は数mの巨大な円柱状の設備である。内部には棚段(トレイ)が数十段設置されており、多段階の気液接触によって多成分の混合物である原油を各留分に分離する。
減圧蒸留装置(げんあつじょうりゅうそうち)は石油精製装置の一種で、常圧蒸留装置から得られた常圧残油を大気圧より低い圧力で蒸留分離するものである。「真空蒸留装置」、「バキューム」などとも呼ばれる。 高沸点の石油系炭化水素は350℃前後の温度から熱分解を始めるので、沸点が350℃以上の留分を大気圧下で
蒸留水(じょうりゅうすい)とは、水を加熱などによっていったん沸騰させて気体の水蒸気にしてから、それを別の場所で冷却して液体に戻した純水(純度の高い水)。この操作を蒸留と呼び、水の純度を上げるため(水から不純物を取り除くため)に行う。水の純度を上げる方法は何種類かあり、蒸留によってできた純水を蒸留水
水蒸気蒸留(すいじょうきじょうりゅう、英: steam distillation)は、蒸気圧の高い高沸点の化合物を沸点以下の温度で蒸留する方法である。水と混合することで沸点が低くなるような化合物(すなわち、水と最低共沸点を有する化合物)を蒸留すると効果的である。水蒸気を連続的に蒸留
2020年 - 茅野工場の新棟が竣工、翌年2021年に操業開始。 ダイシングソー 半導体に使用されるシリコンウェーハなどのチップ分割を行う切断装置。 レーザソー 半導体や電子部品製造において従来は砥石を使用したブレードダイシングが主流であったが、近年加工素材の多様化に伴い新たな加工方法としてレーザによるチップ分割を行う装置。
半導体製造装置(はんどうたいせいぞうそうち)とは半導体の製造に使用される装置。 半導体製造装置は半導体の製造のために使用される装置で年々微細化が進むため対応できるかどうかが競争力に直結する。特に縮小投影型露光装置(ステッパー)は微細化の要であり、製造ラインは露光装置
(1)液体を熱して気化させ, その気体を冷却して, 再び液体とすること。 不純物が除かれ, 純粋な液体が得られる。
人や物を一定の支配のもとにおくこと。 特に, 被疑者や被告人を一定の機関に拘束すること。